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【解读】石墨烯外延薄膜缓冲层的产生、作用和优势

基于CVD（化学气相沉积）方法，在绝缘衬底（如蓝宝石、Si/SiO₂）上直接生长高质量石墨烯，完全省去传统转移工艺。该石墨烯可作为准范德华外延缓冲层，用于氮化物等外延层的应力调控与高质量生长；同时也可直接作为无转移石墨烯硅基晶圆，用于电子器件制造。核心突破在于实现了石墨烯与衬底的直接牢固结合，且无金属/高分子残留，工艺简洁、可控性强。

金刚石压砧的分类和选用

金刚石压砧（DAC）是目前唯一能在实验室稳定产生百万大气压级静态压力的设备，已成为高压科学研究的核心工具。

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二维范德华材料的表面不仅是“边界”，更是“功能载体”和“设计画布”。 正是这种原子级洁净、高度可定制、无界面缺陷的表面特性，使其成为探索新物理、开发下一代信息技术的核心平台

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