二面体（上海）科技有限公司
提供多种与光学晶体、玻璃、陶瓷及金属材料相关的加工订制服务，如晶体生长、单晶薄膜外延、切割研磨抛光，光学元件加工镀膜，极紫外光学镀膜，陶瓷产品烧制加工等。
提供原子层沉积ALD、物理气相输运PVT、MOCVD、HVPE、磁控溅射等相关设备来制备材料和工艺订制。
各种棱镜、透镜、锥体、球面镜、平面镜及异性体，可按照客户技术指标和要求加工。
1.球面镜的参数
通常：曲率半径（R）、光圈数(N)、局部光圈（△N)、光洁度(B)、偏心（线偏量C、角偏量β）。
特殊：具体的尺寸公差。
2.平面镜的参数
通常：平面度即光圈数（N)、局部光圈（△N)、平行度（//）、角度(∠)、垂直度(⊥）、光洁度(B)。
特殊：具体的尺寸公差。
| Ø50超广角镜头 | Ø70胶合物镜 | Ø150分光镜头 |
| 0.4mm角度秒级微型棱镜 | 30_斜方锥透镜 | 台阶反射镜 |
| Ø 250球面镜 | Ø 250球面透镜 | Ø 300长条透镜 |
| 广角镜（多球面） | 圆锥镜片 | 孔定位台阶反射镜 |
| 六角石英棒 | 24X15X218六角石英斜棒 | 角度棒镜 |
| 扫描胶合棱镜组 | 椭圆平面反光镜 | 八角转股棱镜（高速扫描镜） |
| 转股棱镜 | 各类大小精度棒镜 | 各种规格精度条形镜 |
物理气相输运 PVT
主要用于生长在熔点以下容易升华（即固态直接气化），且化学计量比复杂或熔点极高的材料。它生长出的通常是块体单晶。
典型材料及应用：
第三代半导体材料：
碳化硅（SiC）： 这是PVT法最著名、最商业化的应用。目前市场上95%以上的4H-SiC和6H-SiC导电型衬底单晶都是用PVT法（也称为改进的Lely法）生长的。它是电动汽车、高铁、5G基站等高压、高频、高温功率器件的核心基础材料。
氮化铝（AlN）： 用于制备深紫外LED、激光器和高频表面声波器件衬底的单晶AlN，主要依靠PVT法生长。
氮化镓（GaN）： 虽然GaN单晶衬底主流是氨热法，但PVT法也是一种重要的技术路线。
宽禁带半导体及特种晶体：
氧化锌（ZnO）： 用于蓝紫光光电器件、压电传感器。
硒化锌（ZnSe）、硫化锌（ZnS）： 主要用于制作红外光学窗口和透镜（如军用热成像系统），PVT是生长这些大尺寸、高质量红外晶体的关键方法。
一些金属氧化物和硫族化合物单晶。
